工作內容

1.參與過45nm/40nm或以下微影技術開發, 對於如何從頭開發微影製程有相當的瞭解, 至少10年的微影技術經驗. 
2.對於圖形成像如何最佳化, 及其評判和解決其相關問題有相當的瞭解, 對於45nm/40nm或以下的圖形成像最佳化有良好實績
3.對於圖形對準及疊對的最佳化有相當的瞭解, 對於45nm/40nm或以下的圖形疊對最佳化有良好實績
4.對於微影相關缺陷的成因及其改善方案有相當的瞭解, 對於微影相關材料及track程式有相當的瞭解
5.至少6年曝光機, track, IBO/DBO 及CDSEM 機台使用經驗

工作說明

• 工作縣市:新竹縣市
• 上班地點:新竹市
• 工作待遇:面議
• 上班時段:日班,
• 需求人數:1

條件要求

• 工作經歷:
• 學歷要求:碩士
• 科系要求: 電機電子工程相關
• 專長需求:
• 擅長工具:
• 具備駕照:
• 其他條件:
  1. 10年以上半導體晶圓廠經驗。
  2. 參與12吋晶圓廠的28nm或28nm以下先進製程技術尤佳。
  3. 有擔任主管職經驗尤佳。